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ROUND LAB - Pine Calming Cica Mask

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Hersteller

Eigenschaften

Inhaltsstoffe
water, pinus densiflora leaf extract, glycerin, dipropylene glycol, glycereth-26, centella asiatica extract, hyaluronic acid, hydrolyzed hyaluronic acid, sodium hyaluronate, butylene glycol, portulaca oleracea extract, propanediol, chondrus crispus, ethylhexylglycerin, biosaccharide gum- 1. glycoproteins, ammonium polyacryloyldimethyl taurate, tromethamine, polyglyceryl-4 caprate, asiaticoside, asiatic acid, madecassoside, madecassic acid, polyglyceryl-6 caprylate, capryloyl salicylic acid, hydroxyethylcellulose, 1,2-hexanediol, hydroxyacetophenone, disodium edta, xanthan gum, carbomer

Beschreibung

Beauty Luxe
4,3/64